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著者 (4件)：
資料名：
巻： 36 号： 5A ページ： 2817-2821 発行年： 1997年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902190683483090
整理番号：97A0592144
ダイヤモンド類似の炭素膜を作るための正に自己バイアスされた電極を使うCH4ラジオ周波数プラズマ促進化学蒸着法の開発
Development of CH4-Radio-Frequency-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Method with a Positively Self-Biased Electrode for Diamond-Like Carbon Film.
INABA H
(Hitachi Ltd., Yokohama, JPN)
,
KOKAKU Y
(Hitachi Ltd., Kanagawa, JPN)
,
TERAKADO M
(Hitachi Ltd., Kanagawa, JPN)
,
KATAOKA H
(Hitachi Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 5A ページ： 2817-2821 発行年： 1997年05月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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