文献
J-GLOBAL ID:200902190866570081
整理番号:00A0437403
Characterization of SOI wafers by X-ray CTR scattering.
著者 (3件):
SHIMURA T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HOSOI T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
UMENO M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
210
号:
1/3
ページ:
98-101
発行年:
2000年03月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)