文献
J-GLOBAL ID:200902190946426429
整理番号:99A0095575
共晶温度の上下におけるガラス基板上の非晶質けい素におけるアルミニウム誘起の結晶化
Aluminum-induced crystallization of amorphous silicon on glass substrates above and below the eutectic temperature.
著者 (5件):
NAST O
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
PUZZER T
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
KOSCHIER L M
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
SPROUL A B
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
WENHAM S R
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
73
号:
22
ページ:
3214-3216
発行年:
1998年11月30日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)