文献
J-GLOBAL ID:200902191476663620
整理番号:00A0908544
193nm Photoresists At 130nm Node: Which Lithographic Performances For Which Chemical Platform?
著者 (8件):
AMBLARD G
(International SEMATECH, TX, USA)
,
BYERS J
(International SEMATECH, TX, USA)
,
DOMKE W-D
(International SEMATECH, TX, USA)
,
RICH G
(International SEMATECH, TX, USA)
,
GRAFFENBERG V
(International SEMATECH, TX, USA)
,
PATEL S
(International SEMATECH, TX, USA)
,
MILLER D
(International SEMATECH, TX, USA)
,
PEREZ G
(International SEMATECH, TX, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
3999
号:
Pt.1
ページ:
32-53
発行年:
2000年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)