文献
J-GLOBAL ID:200902191782484259
整理番号:95A0574928
ラジカル増強気相堆積によるPd超薄膜の成長
Ultra Thin Film Growth of Pd by Radical Enhanced Vapor Deposition.
著者 (2件):
FUJIMOTO T
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
KOJIMA I
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
34
号:
5A
ページ:
2461-2462
発行年:
1995年05月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)