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資料名：
巻： 38 号： 11B ページ： L1315-L1317 発行年： 1999年11月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902191824204707
整理番号：00A0057101
水素化非晶質けい素の性質に及ぼすシランプラズマ中の高級シランの効果
Effect of Higher Silanes in Silane Plasmas on Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Films.
SUZUKI A
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 38 号： 11B ページ： L1315-L1317 発行年： 1999年11月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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