文献
J-GLOBAL ID:200902192212083478
整理番号:99A0258123
MeVのFeイオン注入InPにおけるFe,ドーパント及び二次欠陥の間の相互作用
Interaction between Fe, dopants, and secondary defects in MeV Fe ion implanted InP.
著者 (7件):
GASPAROTTO A
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
CARNERA A
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
FRIGERI C
(Inst. MASPEC-CNR, Parma, ITA)
,
PRIOLO F
(Univ. Catania, Catania, ITA)
,
FRABONI B
(Univ. Bologna, Bologna, ITA)
,
CAMPORESE A
(Inst. ICTIMA-CNR, Padova, ITA)
,
ROSSETO G
(Inst. ICTIMA-CNR, Padova, ITA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
85
号:
2
ページ:
753-760
発行年:
1999年01月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)