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文献
J-GLOBAL ID:200902192212083478   整理番号:99A0258123

MeVのFeイオン注入InPにおけるFe,ドーパント及び二次欠陥の間の相互作用

Interaction between Fe, dopants, and secondary defects in MeV Fe ion implanted InP.
著者 (7件):
GASPAROTTO A
(Univ. Padova, Padova, ITA)
CARNERA A
(Univ. Padova, Padova, ITA)
FRIGERI C
(Inst. MASPEC-CNR, Parma, ITA)
PRIOLO F
(Univ. Catania, Catania, ITA)
FRABONI B
(Univ. Bologna, Bologna, ITA)
CAMPORESE A
(Inst. ICTIMA-CNR, Padova, ITA)
ROSSETO G
(Inst. ICTIMA-CNR, Padova, ITA)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 85  号:ページ: 753-760  発行年: 1999年01月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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