文献
J-GLOBAL ID:200902192224651102
整理番号:02A0470069
水素化したアモルファスシリコンにおける強い光学励起の下での光誘起欠陥生成
Light-induced defect creation under intense optical excitation in hydrogenated amorphous silicon.
著者 (2件):
MORIGAKI K
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
HIKITA H
(Meikai Univ., Chiba, JPN)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
299/302
号:
Pt.A
ページ:
455-459
発行年:
2002年04月01日
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)