文献
J-GLOBAL ID:200902192329378142
整理番号:02A0675165
パルスレーザ蒸着を用いた室温でのNiO(111)エピタキシャル膜成長による基底層の影響と結晶性
Influence of Initial Layers on Crystallinity of NiO(111) Epitaxial Film Grown at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition.
著者 (4件):
KAKEHI Y
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
NAKAO S
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
SATOH K
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
KUSAKA T
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
資料名:
Sensors and Materials
(Sensors and Materials)
巻:
14
号:
5
ページ:
281-291
発行年:
2002年
JST資料番号:
L0338A
ISSN:
0914-4935
CODEN:
SENMER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)