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文献
J-GLOBAL ID:200902192329378142   整理番号:02A0675165

パルスレーザ蒸着を用いた室温でのNiO(111)エピタキシャル膜成長による基底層の影響と結晶性

Influence of Initial Layers on Crystallinity of NiO(111) Epitaxial Film Grown at Room Temperature by Pulsed Laser Deposition.
著者 (4件):
KAKEHI Y
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
NAKAO S
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
SATOH K
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
KUSAKA T
(Technol. Res. Inst. Osaka Prefecture, Osaka, JPN)

資料名:
Sensors and Materials  (Sensors and Materials)

巻: 14  号:ページ: 281-291  発行年: 2002年 
JST資料番号: L0338A  ISSN: 0914-4935  CODEN: SENMER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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