文献
J-GLOBAL ID:200902192840841411
整理番号:99A0282996
MOCVDにより成長させたMgドープp型GaNにおける自己補償
Self-compensation in Mg doped p-type GaN grown by MOCVD.
著者 (7件):
OBLOH H
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
,
BACHEM K H
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
,
KAUFMANN U
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
,
KUNZER M
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
,
MAIER M
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
,
RAMAKRISHNAN A
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
,
SCHLOTTER P
(Fraunhofer Inst. Applied Solid State Physics(FhG-IAF), Freiburg, DEU)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
195
号:
1/4
ページ:
270-273
発行年:
1998年12月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)