文献
J-GLOBAL ID:200902193110875171
整理番号:93A0660287
Multiple-exposure interferometric lithography.
著者 (2件):
ZAIDI S H
(Univ. New Mexico, New Mexico)
,
BRUECK S R J
(Univ. New Mexico, New Mexico)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
3
ページ:
658-666
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)