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著者 (4件)：
資料名：
巻： 15 号： 5 ページ： 715-730 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902195050102421
整理番号：03A0048534
光酸発生剤及び光塩基発生剤を用いた新しい感光性高分子の進歩
Development of Novel Photosensitive Polymer Systems Using Photoacid and Photobase Generators.
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
SUYAMA K
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
OKAMURA H
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 5 ページ： 715-730 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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