文献
J-GLOBAL ID:200902195335361226
整理番号:01A0734003
二重RFプラズマ化学気相蒸着法による垂直配向カーボンナノチューブの形成
Formation of Vertically Aligned Carbon Nanotubes by Dual-RF-Plasma Chemical Vapor Deposition.
著者 (9件):
HIRAO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ITO K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
FURUTA H
(Japan Fine Ceramics Center, Tokyo, JPN)
,
YAP Y K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
IKUNO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HONDA S
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MORI Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SASAKI T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OURA K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
40
号:
6B
ページ:
L631-L634
発行年:
2001年06月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)