文献
J-GLOBAL ID:200902195371772720
整理番号:02A0359077
選択的に成長させた二ゲート単一電子トランジスタの作製および低温輸送特性
Fabrication and low-temperature transport properties of selectively grown dual-gated single-electron transistors.
著者 (7件):
MOTOHISA J
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
NAKAJIMA F
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
FUKUI T
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
VAN DER WIEL W G
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
ELZERMAN J M
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
DE FRANCESCHI S
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
KOUWENHOVEN L P
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
80
号:
15
ページ:
2797-2799
発行年:
2002年04月15日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)