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文献
J-GLOBAL ID:200902195371772720   整理番号:02A0359077

選択的に成長させた二ゲート単一電子トランジスタの作製および低温輸送特性

Fabrication and low-temperature transport properties of selectively grown dual-gated single-electron transistors.
著者 (7件):
MOTOHISA J
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
NAKAJIMA F
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
FUKUI T
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
VAN DER WIEL W G
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
ELZERMAN J M
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
DE FRANCESCHI S
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
KOUWENHOVEN L P
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 80  号: 15  ページ: 2797-2799  発行年: 2002年04月15日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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