文献
J-GLOBAL ID:200902196815289513
整理番号:01A0976291
原子間力顕微鏡を用いた自然の酸化物層の引っかきによるSi(100)表面のナノスケールのパターンづけ
Nanoscale patterning of Si(100) surfaces by scratching through the native oxide layer using atomic force microscope.
著者 (3件):
SANTINACCI L
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
,
DJENIZIAN T
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
,
SCHMUKI P
(Univ. Erlangen-Nuremberg, Erlangen, DEU)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
79
号:
12
ページ:
1882-1884
発行年:
2001年09月17日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)