文献
J-GLOBAL ID:200902197188372449
整理番号:95A0093497
種々のMo-Siターゲットに関するスパッタリング速度の研究
Sputtering rate studies on different Mo-Si targets.
著者 (4件):
UTSUNO F
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
MORI Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
HAYASHI A
(Asahi Glass Co., Ltd., Kanagawa-ken, JPN)
,
YASUI I
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
178
ページ:
250-254
発行年:
1994年11月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)