文献
J-GLOBAL ID:200902197198072770
整理番号:01A0486790
周期的な溝を持つ基板上のGaNのヘテロエピタキシャル横方向被覆成長 転位密度が低いGaN単結晶を成長させる新しい方法
Heteroepitaxial Lateral Overgrowth of GaN on Periodically Grooved Substrates: A New Approach for Growing Low-Dislocation-Density GaN Single Crystals.
著者 (8件):
DETCHPROHM T
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
YANO M
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
SANO S
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
NAKAMURA R
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
MOCHIDUKI S
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
NAKAMURA T
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
AMANO H
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
AKASAKI I
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
40
号:
1A/B
ページ:
L16-L19
発行年:
2001年01月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)