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著者 (4件)：
資料名：
巻： 62 号： 2/3 ページ： 293-296 発行年： 2001年06月15日
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902197274103299
整理番号：01A0646338
非平衡マグネトロンスパッタリングにより堆積したCoNx薄膜の微細構造と電気特性
Microstructure and electrical properties of CoNx thin films deposited by unbalanced magnetron sputtering.
ASAHARA H
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
MIGITA T
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
TANAKA T
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
KAWABATA K
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
資料名：
Vacuum
(Vacuum)
巻： 62 号： 2/3 ページ： 293-296 発行年： 2001年06月15日
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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