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文献
J-GLOBAL ID:200902200147355115   整理番号:07A0441763

二次元RFマグネトロンスパッタリングにより作製したBi4Ti3O12/TiO2薄膜の構造と誘電特性

Structural and Ferroelectric Properties of Bi4Ti3O12/TiO2 Thin Films Prepared by Two-Dimensional RF Magnetron Sputtering
著者 (5件):
MASAYA Hiroaki
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
INADA Naoko
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
HIGUCHI Tohru
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
HATTORI Takeshi
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
TSUKAMOTO Takeyo
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)

資料名:
Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)

巻: 32  号:ページ: 15-18  発行年: 2007年03月 
JST資料番号: L4468A  ISSN: 1382-3469  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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