文献
J-GLOBAL ID:200902200147355115
整理番号:07A0441763
二次元RFマグネトロンスパッタリングにより作製したBi4Ti3O12/TiO2薄膜の構造と誘電特性
Structural and Ferroelectric Properties of Bi4Ti3O12/TiO2 Thin Films Prepared by Two-Dimensional RF Magnetron Sputtering
著者 (5件):
MASAYA Hiroaki
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
INADA Naoko
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
HIGUCHI Tohru
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
HATTORI Takeshi
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
TSUKAMOTO Takeyo
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
資料名:
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻:
32
号:
1
ページ:
15-18
発行年:
2007年03月
JST資料番号:
L4468A
ISSN:
1382-3469
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)