文献
J-GLOBAL ID:200902200940268487
整理番号:04A0442443
分子線エピタキシーによって成長させたZnO膜の真性欠陥
Intrinsic Defects in ZnO Films Grown by Molecular Beam Epitaxy
著者 (5件):
TATSUMI T
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
FUJITA M
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
KAWAMOTO N
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
SASAJIMA M
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
HORIKOSHI Y
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
43
号:
5A
ページ:
2602-2606
発行年:
2004年05月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)