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著者 (9件)：
資料名：
巻： 437 号： 1/2 ページ： 248-256 発行年： 2003年08月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902202090900718
整理番号：03A0542484
CuとSiO2の間の傾斜Ta-TaN拡散障壁の構造と熱安定性
Structure and thermal stability of graded Ta-TaN diffusion barriers between Cu and SiO2
HUEBNER R
(Leibniz Inst. Solid State and Materials Res. Dresden, Dresden, DEU)
,
HECKER M
(Leibniz Inst. Solid State and Materials Res. Dresden, Dresden, DEU)
,
MATTERN N
(Leibniz Inst. Solid State and Materials Res. Dresden, Dresden, DEU)
,
HOFFMANN V
(Leibniz Inst. Solid State and Materials Res. Dresden, Dresden, DEU)
,
WENGER C
(Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
,
ENGELMANN H-J
(AMD Saxony LLC and Co. KG Dresden, Dresden, DEU)
,
WENZEL C
(Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
,
ZSCHECH E
(AMD Saxony LLC and Co. KG Dresden, Dresden, DEU)
,
BARTHA J W
(Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 437 号： 1/2 ページ： 248-256 発行年： 2003年08月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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