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著者 (6件)：
資料名：
巻： 593 号： 1-3 ページ： 303-309 発行年： 2005年11月20日
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902205111418104
整理番号：06A0144416
凝縮ホルムアミドからの光子刺激イオン脱離における直接的過程と間接的過程
Direct and indirect processes in photon-stimulated ion desorption from condensed formamide
IKEURA-SEKIGUCHI H.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SEKIGUCHI T.
(Japan Atomic Energy Res. Inst. (JAERI), Naka, JPN)
,
BABA Y.
(Japan Atomic Energy Res. Inst. (JAERI), Naka, JPN)
,
IMAMURA M.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
MATSUBAYASHI N.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SHIMADA H.
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Surface Science
(Surface Science)
巻： 593 号： 1-3 ページ： 303-309 発行年： 2005年11月20日
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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