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資料名：
巻： 105 号： 108(SDM2005 58-69) ページ： 67-72 発行年： 2005年06月02日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902205495338650
整理番号：05A0661533
堆積金属酸化法によるHfO2/Si構造の作成とその高分解能RBS評価
Fabrication of HfO2/Si structure and its characterization using HR-RBS
上野智雄
(東京農工大 工)
,
長里喜隆
(東京農工大 工)
,
小林晃子
(東京農工大 工)
,
入野真
(東京農工大 工)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 105 号： 108(SDM2005 58-69) ページ： 67-72 発行年： 2005年06月02日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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