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文献
J-GLOBAL ID:200902205495338650   整理番号:05A0661533

堆積金属酸化法によるHfO2/Si構造の作成とその高分解能RBS評価

Fabrication of HfO2/Si structure and its characterization using HR-RBS
著者 (4件):
上野智雄
(東京農工大 工)
長里喜隆
(東京農工大 工)
小林晃子
(東京農工大 工)
入野真
(東京農工大 工)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 105  号: 108(SDM2005 58-69)  ページ: 67-72  発行年: 2005年06月02日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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