文献
J-GLOBAL ID:200902206491719000
整理番号:07A0157810
高κゲート絶縁材料としてのチタン-アルミニウム酸化物の熱安定性と電気特性
Thermal stability and electrical properties of titanium-aluminum oxide ultrathin films as high-k gate dielectric materials
著者 (5件):
SHI L.
(Dep. of Material Sci. and Engineering, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China ...)
,
XIA Y. D.
(Dep. of Material Sci. and Engineering, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China ...)
,
XU B.
(Dep. of Material Sci. and Engineering, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China ...)
,
YIN J.
(Dep. of Material Sci. and Engineering, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China ...)
,
LIU Z. G.
(Dep. of Material Sci. and Engineering, Nanjing Univ., Hankou Road 22, Nanjing 210093, People’s Republic of China ...)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
101
号:
3
ページ:
034102-034102-4
発行年:
2007年02月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)