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文献
J-GLOBAL ID:200902206926800689   整理番号:06A0611307

SiO2とSiO2-x薄膜のVUV反射分光法

VUV Reflection Spectroscopy of SiO2 and SiO2-x Thin Films
著者 (9件):
NAKAGAWA K.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
TSUDA T.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
IWAI T.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
SHIRAISHI Y.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
IWAI Y.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
CHANG SL.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
MIZUNUMA T.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
MATSUMOTO S.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
MATSUMOTO H.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)

資料名:
UVSOR Activity Report  (UVSOR Activity Report)

巻: 2005  ページ: 86  発行年: 2006年07月 
JST資料番号: L2127A  ISSN: 0911-5730  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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