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文献
J-GLOBAL ID:200902208024014250   整理番号:06A0369941

反応RFスパッタリングで析出した炭化タングステン膜のミクロ組織的および力学的研究

Microstructural and mechanical investigations of tungsten carbide films deposited by reactive RF sputtering
著者 (7件):
ABDELOUAHDI K.
(Lab. d′Etude des Milieux Nanometriques, Batiment Maupertuis 1, rue du Pere Jarlan, 91025 Evry cedex, FRA)
SANT C.
(Lab. d′Etude des Milieux Nanometriques, Batiment Maupertuis 1, rue du Pere Jarlan, 91025 Evry cedex, FRA)
LEGRAND-BUSCEMA C.
(Lab. d′Etude des Milieux Nanometriques, Batiment Maupertuis 1, rue du Pere Jarlan, 91025 Evry cedex, FRA)
AUBERT P.
(Lab. d′Etude des Milieux Nanometriques, Batiment Maupertuis 1, rue du Pere Jarlan, 91025 Evry cedex, FRA)
PERRIERE J.
(Inst. des NanoSciences de Paris, Univ. Paris VI, Campus Boucicaut,140 rue de Lourmel, 75015 Paris, FRA)
RENOU G.
(Lab. d′Etude des Milieux Nanometriques, Batiment Maupertuis 1, rue du Pere Jarlan, 91025 Evry cedex, FRA)
HOUDY Ph.
(Lab. d′Etude des Milieux Nanometriques, Batiment Maupertuis 1, rue du Pere Jarlan, 91025 Evry cedex, FRA)

資料名:
Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)

巻: 200  号: 22-23  ページ: 6469-6473  発行年: 2006年06月20日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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