文献
J-GLOBAL ID:200902208217419176
整理番号:09A0561488
32nm以下用のの高次のピッチ分割の解析
Analysis of higher order pitch division for sub-32nm lithography
著者 (2件):
XIE Peng
(Rochester Inst. Technol., NY)
,
SMITH Bruce W.
(Rochester Inst. Technol., NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7274
号:
Pt.2
ページ:
72741Y.1-72741Y.8
発行年:
2009年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)