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J-GLOBAL ID：200902208927626022 整理番号：06A0135102

トライボナノリソグラフィーを用いたKOH水溶液におけるナノスケール作製

Nanoscale fabrication in aqueous KOH solution using tribo-nanolithography

著者 (7件)：

KAWASEGI Noritaka

(Graduate School of Sci. and Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)

PARK Jeong Woo

(Engineering Res. Center, Pusan National Univ., 30 Jangjeon-dong, Geumjeong-gu, Busan 609-735, KOR)

MORITA Noboru

(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)

YAMADA Shigeru

(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)

TAKANO Noboru

(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)

OYAMA Tatsuo

(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)

ASHIDA Kiwamu

(Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., 1-2-1 Namiki, Tsukuba ...)

資料名：

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

巻： 23 号： 6 ページ： 2471-2475 発行年： 2005年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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