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著者 (15件)：
資料名：
巻： 51st ページ： 622-626 発行年： 2008年
JST資料番号： E0063B ISSN： 0737-5921 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902209108288670
整理番号：09A0296925
結晶性シリコン太陽電池ウエハーの連続工程における大気圧下のプラズマ強化CVDとプラズマ化学エッチング
Plasma Enhanced CVD and Plasma Chemical Etching at Atmospheric Pressure for Continuous Processing of Crystalline Silicon Solar Wafers
LOPEZ E.
(Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU)
,
DRESLER B.
(Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU)
,
MAEDER G.
(Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU)
,
DANI I.
(Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU)
,
HOPFE V.
(Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU)
,
KASKEL S.
(Fraunhofer Inst. Werkstoff- und Strahltechnik(IWS), Dresden, DEU)
,
HEINTZE M.
(Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, DEU)
,
MOELLER R.
(Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, DEU)
,
WANKA H.
(Centrotherm Photovoltaics GmbH & Co. KG, Blaubeuren, DEU)
,
KIRSCHMANN M.
(Q-Cells AG, Thalheim, DEU)
,
FRENCK J.
(Q-Cells AG, Thalheim, DEU)
,
PORUBA A.
(Solartec s.r.o., Roznov pod Radhostem, DEU)
,
BARINKA R.
(Solartec s.r.o., Roznov pod Radhostem, DEU)
,
DAHL R.
(Centrotherm Photovoltaics Technol. GmbH, Konstanz, DEU)
,
NUSSBAUMER H.
(Centrotherm Photovoltaics Technol. GmbH, Konstanz, DEU)
資料名：
Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters
(Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 51st ページ： 622-626 発行年： 2008年
JST資料番号： E0063B ISSN： 0737-5921 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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