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著者 (6件)：
資料名：
巻： 174/175 ページ： 261-265 発行年： 2003年09月
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902209980471800
整理番号：04A0020987
rf反応性スパッタリングで作製したTi-Si-N薄膜の構造と性質におよぼすスパッタリング条件の効果
Influence of sputtering conditions on the structure and properties of Ti-Si-N thin films prepared by r.f.-reactive sputtering
NOSE M
(Takaoka National Coll., Takaoka, JPN)
,
DEGUCHI Y
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
MAE T
(Toyama National Coll. of Technol., Toyama, JPN)
,
HONBO E
(Toyama Industrial Res. Center, Takaoka, JPN)
,
NAGAE T
(Toyama Industrial Res. Center, Takaoka, JPN)
,
NOGI K
(Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 174/175 ページ： 261-265 発行年： 2003年09月
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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