文献
J-GLOBAL ID:200902210129466657
整理番号:06A0557425
Si(110)基板上に形成した非常に長いErSi2ナノワイヤの形成と構造解析
Formation and Structure Analysis of Very Long ErSi2 Nanowires Formed on Si(110) Substrates
著者 (7件):
WATANABE Ryouki
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
HARAKO Susumu
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
KUZUU Takashi
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
KOUNO Kazuki
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
,
KOBAYASHI Tomohiro
(RIKEN, Saitama, JPN)
,
MEGURO Takashi
(RIKEN, Saitama, JPN)
,
ZHAO Xinwei
(Tokyo Univ. Sci., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
45
号:
6B
ページ:
5535-5537
発行年:
2006年06月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)