文献
J-GLOBAL ID:200902210705897162
整理番号:07A0731194
レジストTDMR-AR80およびTDMR-AR95を用いたi線露光による0.3μm以下の構造のプリンティング
Printing of structures less than 0.3um by i-line exposure using resists TDMR-AR80 und TDMR-AR95
著者 (3件):
BEHRENDT A.
(Infineon Technol. Austria AG, Villach)
,
DOW T.
(Infineon Technol. Austria AG, Villach)
,
STOEFLIN K.
(Infineon Technol. Austria AG, Villach)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6519
号:
Pt.2
ページ:
65193J.1-65193J.8
発行年:
2007年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)