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文献
J-GLOBAL ID:200902211607596274   整理番号:09A1035370

高周波スパッタリングによりPtおよびSrRuO3/Pt電極上に形成した非ドープ,および,MnをドープしたBiFeO3膜の特性

Characteristics of Undoped and Mn-Doped BiFeO3 Films Formed on Pt and SrRuO3/Pt Electrodes by Radio-Frequency Sputtering
著者 (5件):
KIM Jeong Hwan
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
SUGIYAMA Yoshihiro
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
SUGIYAMA Yoshihiro
(Fujitsu Lab. Ltd., Kanagawa, JPN)
ISHIWARA Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 48  号: 9,Issue 2  ページ: 09KB02.1-09KB02.4  発行年: 2009年09月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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