文献
J-GLOBAL ID:200902211884161277
整理番号:09A0720538
熱ナノインプリントリソグラフィーにおいて高分子の脱濡れを抑制する光反応性化学吸着単分子層
Photoreactive Chemisorbed Monolayer Suppressing Polymer Dewetting in Thermal Nanoimprint Lithography
著者 (5件):
ODA Hirokazu
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
,
ODA Hirokazu
(Tokyo Inst. of Technol., Kanagawa, JPN)
,
OHTAKE Tomoyuki
(NOF Corp., Ibaraki, JPN)
,
TAKAOKA Toshiaki
(NOF Corp., Ibaraki, JPN)
,
NAKAGAWA Masaru
(Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
資料名:
Langmuir
(Langmuir)
巻:
25
号:
12
ページ:
6604-6606
発行年:
2009年06月16日
JST資料番号:
A0231B
ISSN:
0743-7463
CODEN:
LANGD5
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)