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文献
J-GLOBAL ID:200902213621623163   整理番号:08A0818586

多結晶BiFeO3薄膜の電場下でのX線回折研究

X-ray diffraction study of polycrystalline BiFeO3 thin films under electric field
著者 (6件):
NAKASHIMA Seiji
(Dep. of Systems Innovation, Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka ...)
SAKATA Osami
(Japan Synchrotron Radiation Res. Institute/SPring-8, Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo 679-5198, JPN)
NAKAMURA Yoshitaka
(Dep. of Systems Innovation, Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka ...)
KANASHIMA Takeshi
(Dep. of Systems Innovation, Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka ...)
FUNAKUBO Hiroshi
(Dep. of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Technol., Tokyo Inst. of ...)
OKUYAMA Masanori
(Dep. of Systems Innovation, Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka ...)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 93  号:ページ: 042907  発行年: 2008年07月28日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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