文献
J-GLOBAL ID:200902213834106960
整理番号:06A0304325
振動オリフィス射出法による単一サイズのシリコン微粒子の作製
Preparation of Monosized Silicon Micro Particles by Pulsated Orifice Ejection Method
著者 (4件):
DONG Wei
(Micro Powder Res. Inst., Sendai, JPN)
,
TAKAGI Kenta
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MASUDA Satoshi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KAWASAKI Akira
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
粉体および粉末冶金
(Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy)
巻:
53
号:
4
ページ:
346-351
発行年:
2006年04月15日
JST資料番号:
F0691A
ISSN:
0532-8799
CODEN:
FOFUA2
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)