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文献
J-GLOBAL ID:200902214656071836   整理番号:03A0636171

疎水性シリカゲルを用いる銅イオンの溶媒抽出挙動

Solvent Extraction Behavior of Copper Ions Using Hydrophobic Silica Gel
著者 (5件):
SHIMIZU T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
KOKUSEN H
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
KOMATSU Y
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
TSURUBOU S
(Asahi Univ., Gifu, JPN)
SEKITA M
(National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)

資料名:
日本イオン交換学会誌  (Journal of Ion Exchange)

巻: 14  号: Supplement  ページ: 369-372  発行年: 2003年07月14日 
JST資料番号: L2416A  ISSN: 0915-860X  CODEN: NKOGEZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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