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J-GLOBAL ID：200902215710515296 整理番号：05A0365451

高品質ハロゲン終端Si(111)表面の形成と反応性

Formation and reactivity of high quality halogen terminated Si(1 1 1) surfaces

著者 (2件)：

EVES B.J.

(National Res. Council, Ont., CAN)

LOPINSKI G.P.

(National Res. Council, Ont., CAN)

資料名：

Surface Science (Surface Science)

巻： 579 号： 2/3 ページ： L89-L96 発行年： 2005年04月01日
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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