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J-GLOBAL ID:200902215892637618   整理番号:06A0098371

ポジ及びネガ調のポリメタクリル酸メチルパターン作製用の172nm真空紫外光を採用した簡単なリソグラフィー法

A simple lithographic method employing 172 nm vacuum ultraviolet light to prepare positive- and negative-tone poly(methyl methacrylate) patterns
著者 (4件):
ASAKURA S.
(Graduate School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN)
HOZUMI A.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 2266-98, Anagahora, Shimo-shidami, Moriyama-ku ...)
YAMAGUCHI T.
(Graduate School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN)
FUWA A.
(Graduate School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN)

資料名:
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

巻: 500  号: 1-2  ページ: 237-240  発行年: 2006年04月03日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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