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文献
J-GLOBAL ID:200902216490437368   整理番号:03A0506394

Coulombビームぼけを考慮した最適電子ビーム投影式リソグラフィ用マスクバイアスの評価

Estimation of Optimum Electron-Beam Projection Lithography Mask Biases Taking Coulomb Beam Blur into Consideration
著者 (6件):
KOBINATA H
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
YAMADA Y
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
TAMURA T
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
FUJII K
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
NARIHIRO M
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
OCHIAI Y
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 42  号: 6B  ページ: 3816-3821  発行年: 2003年06月30日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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