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資料名：
巻： 46 号： 8A ページ： 5021-5024 発行年： 2007年08月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902217201910162
整理番号：07A0834156
インコヒーレント光源を用いるHF/H2O2溶液中光エッチングによる多孔質シリコン形成
Porous Silicon Formation by Photoetching in HF/H2O2 Solution Using Incoherent Light Source
TOMIOKA Seigo
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
,
MIYAZAKI Takayuki
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
,
ADACHI Sadao
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46 号： 8A ページ： 5021-5024 発行年： 2007年08月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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