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著者 (5件)：
資料名：
巻： 24 号： 2 ページ： 657-663 発行年： 2006年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902220163704406
整理番号：06A0256566
イオン増強注入されたフォトレジスト除去の表面特性評価
Surface characterization of ion-enhanced implanted photoresist removal
KAWAGUCHI Mark N.
(Applied Materials, Inc., 974 East Arques Avenue, Sunnyvale, California 94085)
,
PAPANU James S.
(Applied Materials, Inc., 974 East Arques Avenue, Sunnyvale, California 94085)
,
SU Bo
(Applied Materials, Inc., 974 East Arques Avenue, Sunnyvale, California 94085)
,
CASTLE Matthew
(Applied Materials, Inc., 974 East Arques Avenue, Sunnyvale, California 94085)
,
AL-BAYATI Amir
(Applied Materials, Inc., 974 East Arques Avenue, Sunnyvale, California 94085)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 24 号： 2 ページ： 657-663 発行年： 2006年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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