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著者 (7件)：
資料名：
巻： 97 号： 8 ページ： 083535.1-083535.6 発行年： 2005年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902220786018295
整理番号：05A0496414
パルスレーザ蒸着によるa面サファイア基板上のCuScO2薄膜のエピタキシャル成長
Epitaxial growth of CuScO2 thin films on sapphire a-plane substrates by pulsed laser deposition
KAKEHI Yoshiharu
(Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
SATOH Kazuo
(Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
YOTSUYA Tsutom
(Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
,
NAKAO Satoru
(Inst. for Molecular Sci. (IMS), Aichi, JPN)
,
YOSHIMURA Takeshi
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
ASHIDA Atsushi
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIMURA Norifumi
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 97 号： 8 ページ： 083535.1-083535.6 発行年： 2005年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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