文献
J-GLOBAL ID:200902221129403304
整理番号:09A1054285
塑性変形により調製したSiとGeの半球凹形ウエハの系統的研究
Systematic studies of Si and Ge hemispherical concave wafers prepared by plastic deformation
著者 (3件):
NAKAJIMA Kazuo
(Inst. for Materials Res. (IMR), Tohoku Univ., Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
,
FUJIWARA Kozo
(Inst. for Materials Res. (IMR), Tohoku Univ., Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
,
MORISHITA Kohei
(Inst. for Materials Res. (IMR), Tohoku Univ., Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
311
号:
21
ページ:
4587-4592
発行年:
2009年10月15日
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)