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資料名：
巻： 45 号： 2B ページ： 1410-1413 発行年： 2006年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902221573559280
整理番号：06A0288956
レーザ照射とウエットエッチングによりZnS-SiO2のパターニング
Patterning of ZnS-SiO2 by Laser Irradiation and Wet Etching
MIURA Hiroshi
(RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
TOYOSHIMA Nobuaki
(RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
HAYASHI Yoshitaka
(RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
SANGU Suguru
(RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
IWATA Noriyuki
(RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
TAKAHASHI Junnichi
(RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45 号： 2B ページ： 1410-1413 発行年： 2006年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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