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文献
J-GLOBAL ID:200902223466730530   整理番号:08A0322461

トランジスタ領域毎に最適化された複数歪技術を用いる45nmノード高性能・低リークバルクロジックプラットフォーム技術

High-Performance and Low-Leak Bulk Logic Platform Utilizing FET Specific Multiple Stressors with Highly Enhanced Strain for 45-nm CMOS Technology
著者 (23件):
宮下俊彦
(富士通研)
池田圭司
(富士通研)
KIM Y. S.
(富士通研)
山本知成
(富士通研)
三本杉安弘
(富士通研)
落水洋聡
(富士通研)
迫田恒久
(富士通研)
南方浩志
(富士通研)
早見由香
(富士通研)
大越克明
(富士通)
島宗洋介
(富士通研)
福田真大
(富士通)
岡部堅一
(富士通)
久保智裕
(富士通)
田島貢
(富士通)
山本智彦
(富士通)
大和田保
(富士通)
森年史
(富士通)
助川和雄
(富士通研)
筑根敦弘
(富士通研)
池田和人
(富士通研)
加勢正隆
(富士通)
杉井寿博
(富士通研)

資料名:
電気学会電子デバイス研究会資料  (電気学会研究会資料)

巻: EDD-08  号: 36-45  ページ: 35-39  発行年: 2008年03月06日 
JST資料番号: Z0910A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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