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著者 (4件)：
資料名：
巻： 254 号： 21 ページ： 6932-6936 発行年： 2008年08月30日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902224662222388
整理番号：08A0865784
HfO2/Geゲートスタック構造のゲルマニウム表面のフッ素処理による特性改善
Characteristics improvement of HfO2/Ge gate stack structure by fluorine treatment of germanium surface
LEE Hyun
(Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka, 560-5831, JPN)
,
LEE Dong Hun
(Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka, 560-5831, JPN)
,
KANASHIMA Takeshi
(Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka, 560-5831, JPN)
,
OKUYAMA Masanori
(Graduate School of Engineering Sci., Osaka Univ., 1-3 Machikaneyama-Cho, Toyonaka, Osaka, 560-5831, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 254 号： 21 ページ： 6932-6936 発行年： 2008年08月30日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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