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著者 (3件)：
資料名：
巻： 338/340 ページ： 42-46 発行年： 2004年06月15日
JST資料番号： D0642A ISSN： 0022-3093 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902226063416754
整理番号：04A0511808
高密度プラズマを用いて超高速の10nm/sで微結晶シリコン膜の調製
Preparation of microcrystalline silicon films at ultra high-rate of 10 nm/s using high-density plasma
NIIKURA C
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KONDO M
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
MATSUDA A
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻： 338/340 ページ： 42-46 発行年： 2004年06月15日
JST資料番号： D0642A ISSN： 0022-3093 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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