文献
J-GLOBAL ID:200902226730138768
整理番号:03A0393041
浅くドープした広がり領域を有するSchottkyソース/ドレインSOI MOSFET
Schottky Source/Drain SOI MOSFET with Shallow Doped Extension
著者 (3件):
NISHISAKA M
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
MATSUMOTO S
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
ASANO T
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
42
号:
4B
ページ:
2009-2013
発行年:
2003年04月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)