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文献
J-GLOBAL ID:200902226801241603   整理番号:06A0568709

蛍光X線吸収微細構造により調べたTiN/Si3N4超硬多層膜に関する界面混合

Interfacial intermixing of TiN/Si3N4 super-hard multilayer films studied by fluorescence x-ray absorption fine structure
著者 (6件):
PAN Zhiyun
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
SUN Zhihu
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
XIE Zhi
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
XU Junhua
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
KOJIMA Isao
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
WEI Shiqiang
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)

資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)

巻: 39  号: 13  ページ: 2796-2802  発行年: 2006年07月07日 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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