文献
J-GLOBAL ID:200902226801241603
整理番号:06A0568709
蛍光X線吸収微細構造により調べたTiN/Si3N4超硬多層膜に関する界面混合
Interfacial intermixing of TiN/Si3N4 super-hard multilayer films studied by fluorescence x-ray absorption fine structure
著者 (6件):
PAN Zhiyun
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
,
SUN Zhihu
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
,
XIE Zhi
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
,
XU Junhua
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KOJIMA Isao
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
WEI Shiqiang
(Univ. Sci. and Technol. China, Anhui, CHN)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
39
号:
13
ページ:
2796-2802
発行年:
2006年07月07日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)